最新版本的Genesis R＆D补充配方和标签软件带来了许多重要的改进，包括化学杂质跟踪，单一成分/配方导出，定制服务尺寸覆盖，以及新的双列标签模板。在此网络研讨会期间，我们展示了最新的功能，并演示了如何创建两列标签，输入和跟踪化学杂质，以及其他程序增强功能。